Основной контент книги Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения
Text PDF

Book duration 465 pages

2018 year

0+

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

$7.92

About the book

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (1011–1012 см–3), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10–2 ÷ 10–1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD.

За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого – систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников.

Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

See all reviews

Очень нужная книга для специалиста. Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников Индукционной связанной Плазмы. Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений.

Log in, to rate the book and leave a review
Book Л. А. Сейдман, Е. В. Берлина «Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения» — download in pdf or read online. Leave comments and reviews, vote for your favorites.
Age restriction:
0+
Release date on Litres:
29 October 2019
Writing date:
2018
Volume:
465 p.
ISBN:
978-5-94836-519-0
Total size:
19 МБ
Total number of pages:
465
Copyright holder:
Техносфера
Download format:
Text
Средний рейтинг 4,4 на основе 936 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,5 на основе 1486 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,5 на основе 435 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,3 на основе 695 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,6 на основе 1118 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,1 на основе 562 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,9 на основе 36 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,4 на основе 505 оценок
Text, audio format available
Средний рейтинг 4,5 на основе 691 оценок