Основной контент книги Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
Text PDF
Volume 19 pages
2007 year
Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
$1.68
About the book
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.
Genres and tags
Log in, to rate the book and leave a review
Book Владимира Астахова, Андрея Полисана «Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа» — read online on the website. Leave comments and reviews, vote for your favorites.
Age restriction:
0+Release date on Litres:
28 March 2018Writing date:
2007Volume:
19 p. Total size:
298 КБTotal number of pages:
19Copyright holder:
МИСиС
