Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа
PDFMark as finished
- Size: 19 pp.
- Genre: Material science, WorkshopsEdit
Book description
В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001.
Detailed info
- Age restriction:
- 0+
- Date added to LitRes:
- 28 March 2018
- Date written:
- 2007
- Size:
- 19 pp.
- Total size:
- 0 MB
- Total number of pages:
- 19
- Page size:
149 x 210 мм
- Copyright:
- МИСиС
Основы радиационных технологий. Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+–p–p+(p+–n–n+)-типа — read a free preview online. Leave comments and reviews, vote for your favorite.
Оставьте отзыв
Отзывы